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ULSI生産技術緊急レポートNo.3
半導体特殊材料ガスの除害対策の実態と今後の処理方式

コードNO0212
発刊日1996年3月
顧 問
鴨志田 元孝日本電気(株)ULSIデバイス開発研究所長
原 央 (株)東芝 研究開発センター 主席技監
牧本 次生 (株)日立製作所 常務取締役
安岡 晶彦 三菱電機(株)ULSI開発研究所 所長
矢木 肇 ソニー(株)理事 中央研究所 技師長
編集幹事
菊地 正典 日本電気(株)ULSIデバイス開発研究所 シリコンプロセス統括部長
山本 眞一 (株)東芝 半導体生産技術推進センター 生産技術企画担当部長
吉見 武夫 (株)日立製作所 半導体事業部技術開発本部 副技師長
平山 誠 三菱電機(株)ULSI開発研究所 LSIプロセス開発第1部 部長
服部 毅 ソニー(株)超LSI研究所 主幹研究員
アンケート
協力企業
日本電気/東芝/日立製作所/三菱電機/富士通/シャープ/ソニー/三洋電機/沖電気工業/松下電子工業/日本電装/セイコーエプソン/川崎製鉄/NTTエレクトロニクステクノロジー
価 格本体22,000円+税、送料別
体 裁A4判並製 174頁
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半導体特殊材料ガスの除害対策の実態と今後の処理方式 デバイスメーカ14社の全面的協力により実現した、半導体特殊材料ガスの除害対策の実態と改善指針

主要構成

第1部 調査結果の概要と課題点
第2部 デバイスメーカにおける半導体特殊材料ガス除害対策の実態と今後の処理方式(アンケート調査結果)デバイスメーカ14社
第3部 技術動向と解説

【発刊にあたって】

 私どもは平成5年『ULSI生産技術緊急レポート』を創刊し、第1号として「半導体メーカのウエハ洗浄仕様と問題点」を取り上げ、平成6年には第2号として「プラズマ処理後の洗浄とウエハ裏面洗浄仕様」を発刊して参りました。 レポートの目的は、半導体業界における生産技術の切実な問題点をタイムリーに取り上げ、迅速に実態を提示し、半導体関連業界全体で問題解決を目指すところにあります。
 第1号、第2号とも半導体デバイスメーカ各社のご協力を賜り、多角的観点からの貴重な情報提供をもとに新鮮なインパクトのあるレポートとしてまとめることができました。
 この度、第3号として「半導体特殊材料ガスの除害対策の実態と今後の処理方式」に着眼しました。
 今、最も問題視されている地球環境保全は、地球的規模で産業界全体の問題として大きく取り上げられております。 半導体産業で使用される特殊材料ガスの中には、人体に有害なもの、環境汚染の恐れのあるものがあり、環境保全、安全対策には可能なかぎりの対策を打ってきています。 しかし、半導体製造技術の進展とともに、新規ガスや多種多様のガスを使う傾向にあり、従来の排ガス除害設備機能では排出規制の強化に対応できにくくなっているのが実情であろうかと考えます。
 このような状況下で、各デバイスメーカでの除害の実態を知り、除害方式の安全性、性能、コストミニマム、スペースなどの機能性と経済性を含めた総合的かつ緊急な対応が必要であろうと考えます。 本調査の結果として、排ガス処理方式のより優れた技術の向上と、より効率のよい設備投資のための一助となればと願っております。
『ULSI生産技術緊急レポート』編集委員会

内容目次

第1部 調査結果の概要と課題点

<編集委員会:吉見武夫>


第2部 デバイスメーカにおける半導体特殊材料ガスの除害対策の実態と今後の処理方式

アンケート調査結果<デバイスメーカ14社>
半導体特殊材料ガスの除害方式と現場の問題点、今後の課題と除害設備メーカヘの要望事項に関し、デバイスメーカ14社よりご回答を戴いた。 ご協力戴いた各社ご担当者に、委員会として深く御礼を申し上げます。

第3部 技術動向と解説

第1章 デバイスメーカからみた除害対策の現状と除害装置への期待<須藤 淳>
  1. 除害装置の使用状況
  2. 現状の課題
  3. 将来への有効性
  4. 低価格化による導入促進効果
  5. デバイスメーカとしての役割

第2章 除害装置メーカ各社の取組みの現状と将来展望

§1 大陽東洋酸素(株)<加藤 晴夫>
  1. 吸着式処理装置(空気導入型)
  2. 吸着式処理装置(イナート系)
  3. 燃焼式処理装置
  4. シリンダーキャビネットパージガス用処理装置
  5. 緊急除害装置
  6. 排ガス処理装置の除害性能
  7. 排ガス処理装置の将来展望および今後の課題
§2 (株)荏原製作所<青柳 由重>
  1. 除害処理の現状
  2. 今後の処理方式
§3 日本パイオニクス(株)
  1. 除害方式の現状
  2. 除害の系統
  3. 最新の除害方法と今後の展望
§4 日本酸素(株)<今福 實>
  1. 除害方法と原理
  2. 弊社の取組み状況
  3. 今後の課題と展望
§5 (株)巴商会<三平 博/丸藤 哲暁/後藤田 一徳/Dr.Christoph Scholz>
  1. 乾式除害装置(MAKシリーズ)
  2. NOx処理装置
  3. PFC処理装置
§6 小池酸素工業(株)<佐藤 光一>
  1. 「ガーディアン」の特許について
  2. 「ガーディアン」の概要と特徴
  3. 「ガーディアン」の処理原理とフロー
  4. 「ガーディアン」の処理データ
  5. NF3とSiH4などを同時処理
  6. 主なインターロック
  7. 標準仕様
  8. 将来展望
§7 (株)セイカハイテック<溝川 憲一/菱池 通隆>
  1. ロータリーアトマイザー式排ガス処理装置
  2. 熱酸化分解方式のKTシリーズ
  3. 将来展望
§8 テイサン(株)<茨木 義浩>
  1. 除害装置の現状
  2. 今後の課題
§9 旭電化工業(株)<高畑 忠雄/栗田 有康/小野沢 和久>
  1. 背景
  2. アデカクリンPAS-100の特性
  3. 今後の課題
§10 (株)マツボー<宮坂 吉胤>



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執筆者一覧(敬称略、肩書等は発刊時のものです)
 
■ ULSI生産技術緊急レポート編集委員会
 
【顧問】
鴨志田 元孝日本電気(株)ULSIデバイス開発研究所長
原 央(株)東芝 研究開発センター 主席技監
牧本 次生(株)日立製作所 常務取締役
安岡 晶彦三菱電機(株)ULSI開発研究所 所長
矢木 肇ソニー(株)理事中央研究所 技師長
 
【編集幹事】
菊地 正典日本電気(株)ULSIデバイス開発研究所 シリコンプロセス統括部長
山本 眞一(株)東芝 半導体生産技術推進センター 生産技術企画担当部長
吉見 武夫(株)日立製作所 半導体事業部技術開発本部 副技師長
平山 誠三菱電機(株)ULSI開発研究所 LSIプロセス開発第1部長
服部 毅ソニー(株)超LSI研究所 主幹研究員
 
■ 第3部 執筆者(執筆順)
須藤 淳富士通(株)電子デバイス事業推進本部 施設部施設技術部 プロジェクト課長
加藤 晴夫大陽東洋酸素(株)半導体関連営業本部機器部(大阪)営業課長
青柳 由重(株)荏原製作所 精密電子事業本部環境機器技術部 副部長
島田 孝日本パイオニクス(株)研究所第1研究部 主任研究員
今福 實日本酸素(株)電子機材事業本部 機器事業部機器技術部 部長
三平 博(株)巴商会 技術本部 部長
丸藤 哲暁(株)巴商会 技術本部開発部 テクニカルサポート課長
後藤田 一徳(株)巴商会 技術本部開発部 テクニカルサポート主任
Dr.Christoph Scholz CS-GmbH 社長
佐藤 光一小池酸素工業(株)ガーディアングループ課長
溝川 憲一(株)セイカハイテック ガスエンジニアリング部長
菱池 通隆(株)セイカハイテック ガスエンジニアリング部 主任
茨木 義浩テイサン(株)エレクトロニクス事集部 システムエンジニアリング担当主査
高畑 忠雄旭電化工業(株)新材料開発研究所電子材料1グループ グループリーダー
栗田 有康旭電化工業(株)基礎研究所プロセスグループ グループリーダー
小野沢 和久旭電化工業(株)新材科開発研究所電子材料1グループ 主任研究員
宮坂 吉胤(株)マツボー 真空機器部 部長


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