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オンデマンド出版(POD)
半導体工場環境清浄化総合技術資料集

コードNO0015P
発刊日1980年12月
編 者
小野 員正 東海大学 工学部 教授
価 格 POD(オンデマンド)価格 本体33,600円+税
体 裁A4判並製横2段組 410頁
試 読不可
ご注意オンデマンド版(POD)は、以下の点で当社通常書籍と扱いが異なります。
  • オンデマンド(On Demand:要求があり次第に)という意味の通り、お客様からの注文に応じてその都度印刷・製本をする販売形式を取っています。 そのため、ご注文を受けてから発送までに1週間〜10日前後のお時間をいただきます。
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キャンセル・返品不可 超LSI時代の製造環境の諸問題を豊富なデータをもとに詳述した画期的実践指針

主要構成

第1篇 清浄環境条件への適応
第1章 新しい清浄化技術と防塵法
第2章 半導体工場における清浄空間の設計と管理手法
第3章 超純水製造システムとその管理
第4章 半導体工場の廃水処理とその管理
第5章 半導体工場から排出される有害ガスの処理
第2篇 清浄化技術の基礎的諸問題

【編集方針】

 LSIから超LSIへの移行が進行しつつある半導体工業において、技術の死命を制するとも言える製造環境の清浄化対策は目下試行錯誤の状況にあり、業界における清浄度高度化への要求と相俟って、今後一層の取組みが望まれている分野です。
 本書は、半導体工業の製造現場で日夜清浄化対策に取組まれている担当者の方々、および設備設計、フィルター、空調メーカー等関連業界の方々を読者対象として、今後の新しい清浄環境条件に適応しうる施設の設計と防塵法、クリーンルーム運転性能の向上策、さらに超純水システムの設計と管理、廃水・排ガス・廃棄物処理対策に至る、すべての問題につき、実験室および現場での実測データをもとに、問題解決のための実践的技術資料として編集致しました。
 「第1篇 清浄環境条件への適応」は製造現場における応用技術篇として本書の約3分の2を占める本論であり、豊富な資料をもとに上記諸問題解決のための各種方策と運用上の留意点が詳述されます。
 後編である「第2篇 清浄化技術の基礎的諸問題」は、応用技術に不可分なコンタミネーションコントロールの基礎技術につき重点項目別に整理されるもので、読者が必要に応じてここに立ち帰ることにより、さらに正確な技術的対応を促すことを狙いとするものです。
 両篇を総合した本書の資料的意義は今日極めて高いものと確信し、関係各位のご批判をあおぐべく、ここに発刊致した次第です。

■ 内容目次

総説(1) 半導体の製造と清浄度<小宮 啓義>
  1. まえがき
  2. 半導体の製造工程とコンタミネーション
  3. 異物粒子による欠陥の発生
  4. 欠陥密度と歩留り
  5. 異物粒子と欠陥
  6. あとがき

総説(2) 清浄度に関する国際規格とその動向<松本 美韶>
  1. 国際的動向
  2. 微粒子に関する清浄度基準
    2.1 環境中に存在する微粒子に関する基準
    2.2 空気中に浮遊する微粒子に対する基準
    2.3 液体中に浮遊する微粒子に関する基準
    2.4 表面上の微粒子に関する基準
  3. わが国における清浄度基準に関する動向

第1篇 清浄環境条件への適応

第1章 新しい清浄化技術と防塵法

第1節 超LSI用環境の現状と課題<小野 員正>
  1. まえがき
  2. 塵埃と汚染
    2.1 露光工程における場合
    2.2 電子線とX線による露光の場合
    2.3 エッチング工程における場合
  3. 環境清浄化の現状
    3.1 建物中心の清浄化法
    3.2 清浄化用装置類
    3.3 半導体工場における清浄度の表示
  4. 簡便な清浄化改良試案
    4.1 分割清浄化法(直接浄化)
    4.2 クリーントンネルの有効利用法
    4.3 空気分配器の利用
    4.4 作業自動化と清浄化法
  5. まとめ
第2節 モデルクリーンルームでの基礎的考察<小野 員正>
  1. まえがき
  2. 実験
    2.1 実験用モデルクリーンルーム
    2.2 実験の内容
    2.3 実験結果と考察
  3. まとめ
第3節 半導体工場で求められる薬品とその管理<山下 朝朗>
  1. 概要
  2. 薬品メーカからみた半導体用薬品の移りかわり
  3. 半導体用薬品の現状
    3.1 有機溶剤類
    3.2 無機薬品類
    3.3 感光性樹脂材料およびその付属薬品
  4. 半導体用薬品の現状
    4.1 分析
    4.2 製造
    4.3 充填・包装
    4.4 環境
  5. 半導体製造工場との協力関係
第4節 半導体工場における清浄化装置とその管理<菊池 勇/長山 弘文>
  1. 清浄化装置の動向
  2. 用途別清浄装置とその管理
  3. クリーンルーム用清浄装置とその管理
  4. クリーンルームの省エネルギー対策
第5節 クリーンルーム清浄度の測定と各種測定装置<沼田 典之>
  1. クリーンルーム清浄度測定装置の動向
  2. クリーンルーム清浄度測定装置とその問題点
    2.1 光散乱ダストカウンター
    2.2 ダイリューション装置とサンプリングについて
    2.3 ダストカウンターの校正
  3. クリーンルームにおける粒子の洩れ試験
  4. 最小可測粒径0.1μm測定装置とその問題点
  5. クリーンルーム粒子数集中監視装置
    5.1 システム分類
    5.2 仕様の概略
  6. JIS B 9920「クリーンルーム中における浮遊微粒子の測定方法」および解説、要旨
  7. JIS B 9921「光散乱式粒子計数器」および付属書の要旨

第2章 半導体工場における清浄空間の設計と管理手法

第1節 半導体工場における清浄空間の設計<西 健男>
  1. 規格
    1.1 規格
    1.2 規格の準用
  2. 清浄度と換気回数
    2.1 クリーンルームの基本的考え方
    2.2 清浄度と経験による換気回数
    2.3 じん埃計算式
    2.4 外気じん埃濃度
    2.5 室内の発じん量
    2.6 室内圧
  3. システム
    3.1 概要
    3.2 非層流方式
    3.3 層流式
    3.4 フィルタ類
    3.5 クリーンルームの方式
  4. 清浄空間の構成
    4.1 前室
    4.2 管理室
    4.3 仕上材料
    4.4 照明器具
    4.5 クリーンルーム付属機器
第2節 半導体工場における空気調和と排気設備<西 健男>
  1. 設計条件
    1.1 概要
    1.2 外気条件
    1.3 室内温湿度条件
    1.4 気流
    1.5 室内圧
    1.6 清浄度
    1.7 騒音
    1.8 振動
    1.9 関連法規
  2. 空調負荷
    2.1 概要
    2.2 冷房負荷
    2.3 暖房負荷
    2.4 負荷計算の手順
    2.5 空気線図
    2.6 送風量
    2.7 空調装置と空気線図の関連
  3. 空気調和設備計画
    3.1 空調の目的
    3.2 半導体工場の空調設備の特徴
    3.3 ゾーニング
    3.4 空調方式
    3.5 熱源方式
    3.6 空調機械室、ダクトスペース
    3.7 ダクト
  4. 排気設備
    4.1 換気の目的
    4.2 必要換気量
    4.3 ダクト
第3節 半導体工場における新しい清浄化システム機器<小山 文夫>
  1. 0.1μmHEPAフィルタ
    1.1 はじめに
    1.2 特性
    1.3 効果と使用例
  2. 精密温度調整付クリーンベンチ
    2.1 はじめに
    2.2 構造および性能
    2.3 機種選定上の注意
  3. クリーンルーム用関連機器
    3.1 はじめに
    3.2 空気清浄装置
    3.3 フィルタユニット
    3.4 エアーシャワー
    3.5 無じんエアーカーテン
    3.6 パスボックス
    3.7 簡易(ユニット式)クリーンルーム
第4節 最新半導体工場の環境条件と装置<栗田 守敏>
  1. トータルシステムとしてのクリーンルーム
  2. 半導体生産工場の歩留りと塵埃
  3. 必要最小部分をクリーンルーム化した半導体工場
  4. 超精密恒温恒湿クリーンルーム(サーマルクリーン)
  5. 半導体製造工場における省エネルギーシステム
    5.1 外気利用空調システム
    5.2 バイパス空調システム
    5.3 温排気利用システム
    5.4 最小排気量化
  6. 半導体工場の内装システム
第5節 動作と着衣からの塵埃発生とその対策<栗田 守敏>
  1. はじめに
  2. 作業服と動作による発塵
  3. 作業服の素材
  4. 作業服の洗濯と管理
  5. クリーンルームの運転管理方針
[付属資料]クリーンルーム運転管理指針(案)<日本空気清浄協会>
第1章 緒論
第2章 クリーンルームの専門家と作業者
第3章 クリーンルーム施設内の空気のモニタリング
第4章 クリーンルーム内の什器・備品の選定と管理
第5章 クリーンルーム内の製造設備と関連設備の管理
第6章 クリーンルーム施設および持込み機材の清掃
第7章 クリーンルーム用衣服の選定と管理
第8章 クリーンルーム設備の管理

第3章 超純水製造システムとその管理<小池 勝美>

第1節 半導体工業用超純水のグレードとその測定法
  1. 電子工業用超純水に要求される水質
  2. 電子工業用超純水における基礎項目
    2.1 電気伝導率(比抵抗)
    2.2 微粒子
    2.3 微生物
    2.4 有機物
  3. 電子工業用超純水の基礎項目測定結果例
第2節 超純水システムの基本計画
  1. 逆浸透法、限外炉過法の利用
    1.1 逆浸透法
    1.2 限外炉過法
    1.3 逆浸透法、限外炉過法の利用
  2. 主要部の構成
    2.1 基本計画
    2.2 原水水質の把握
    2.3 基本フローの検討
    2.4 前後ROシステムによる計画
    2.5 後段ROシステムによる計画
  3. 末端処理システム
    3.1 末端処理システムの基本的な考え方
    3.2 各機器の性能と特徴
    3.3 末端システムの構成
  4. 系列分離(予備系列)の考え方
  5. 経済性の問題
第3節 微粒子、微生物の対策
    はじめに
  1. 超純水装置内における微粒子、微生物の動向
  2. 微生物の殺菌法およびその効果
第4節 材質、施工上の留意点
  1. 材質上の留意点
  2. 施工上の留意点
第5節 運転管理上の留意点
  1. 原水および前処理設備の管理
  2. RO装置の管理
  3. 微生物汚染に対する管理
  4. まとめ―今後の電子工業と超純水

第4章 半導体工場の廃水処理とその管理

第1節 半導体工場廃水と基本処理方式<鳴戸 智>
  1. 半導体工場廃水の性状
    1.1 廃水の特徴
    1.2 廃水の水質
    1.3 廃水液量
    1.4 処理設備について
  2. 水処理設備と留意点
  3. 基本的処理方式
    3.1 フッ酸系廃水
    3.2 酸・アルカリ廃水
    3.3 有機系廃水
    3.4 過酸化水素系廃水
    3.5 総合的な処理
  4. クローズドシステムの処理方式
第2節 廃水からの水回収の実際方式<鳴戸 智>
  1. フッ酸系廃水からの水回収
  2. 酸・アルカリ系廃水からの水回収
  3. 有機系廃水からの水回収
  4. シリコン研磨廃水からの水回収
第3節 クローズドシステムとその動向<小坂 謙治>
    はじめに
  1. クローズドシステム計画の配慮点
  2. クローズド化の思想と具体的内容

第5章 半導体工場から排出される有害ガスの処理<神子 安雄/司城 武洋>

第1節 排出される有害ガスとその処理計画
  1. 有害ガスとその性状
    1.1 湿式処理を行う物質
    1.2 乾式処理を行う物質
  2. 有害ガス処理の基本計画
    2.1 全体的レイアウトの考え方
    2.2 法規、基準による規制
    2.3 全体的レイアウト決定の要因
  3. 一般的な処理方式
    3.1 処理装置の選定
    3.2 処理方式の一般的構成
    3.3 その他
  4. 実施例
第2節 有害ガス処理装置の今後の課題
  1. ガス処理後の環境条件
  2. 省エネルギー対策
第3節 排ガス処理装置の保守管理
  1. 一般的な保守点検
  2. 定期点検

第2篇 清浄化技術の基礎的諸問題

第6章 コンタミネーションコントロール<山下 憲一>

第1節 気体中(作業空間)に浮遊する微粒子
  1. はじめに
  2. 顕微鏡法
  3. 自動式粒子計数器法
  4. 作業空間における清浄さの水準
  5. 室内空気中における浮遊微粒子の測定例
第2節 液体中の微粒子の測定方法
  1. はじめに
  2. 測定方法の基本的事項
    2.1 試料容器の洗浄方法
    2.2 試料のサンプリング方法
    2.3 自動式粒子計数器の校正
  3. 液体中の微粒子の測定方法
    3.1 顕微鏡法
    3.2 自動式粒子計数器法
    3.3 簡易型計数器法
    3.4 質量法
  4. 液体の汚染度
  5. 油中に含まれる微粒子の測定例
第3節 コンタミネーションコントロールに関する規格の整備状況
  1. はじめに
  2. フィルタに関する諸規格
  3. コンタミネーションコントロールに関する諸規格
  4. まとめ

第7章 炉過法による空気清浄化技術

炉過法による空気清浄化技術<江見 準>
  1. はじめに
  2. エアフィルター概説
    2.1 炉材の種類
    2.2 エアフィルターの形式
    2.3 集塵効率測定の現状
  3. 繊維層フィルターの集塵機構と単一繊維捕集効率
  4. エアフィルターの圧力損失
  5. 高性能フィルターの集塵効率
  6. おわりに

第8章 光散乱ダストカウンターの現状とその応用<金川 昭>

第1節 光散乱ダストカウンター
  1. 浮遊微粒子測定法
  2. 光散乱ダストカウンター
第2節 散乱光強度分布特性
  1. 粒子による光散乱の理論
  2. 散乱角度依存症
  3. 粒径依存症
  4. 屈折率依存症
  5. 光散乱ダストカウンターの理論応答計算
第3節 光学系
  1. 光学系幾何条件
  2. スペクトル特性
  3. レーザー光源
第4節 装置測定特性
  1. 応答特性曲線
  2. 同時計数誤差
第5節 使用上の留意点
  1. 空気清浄度測定
  2. 清浄装置効率測定

第9章 半導体工業に要求される精密炉過膜とその利用<松尾 繁>
  1. はじめに
    1.1 電子工業の加速度的な技術革新と周辺技術
    1.2 周辺技術としての汚染管理とMF
    1.3 MFの開発と製薬工業
  2. 精密炉過膜の開発と除菌性および除粒子性
    2.1 精密炉過分離機構と各種の分離技術
    2.2 滅菌法と炉過除菌
    2.3 精密炉過膜MFの素材
    2.4 精密炉過膜の製法
    2.5 精密大量炉過用カートリッジの開発
  3. 精密炉過膜の孔特性と品質評価
    3.1 精密炉過膜の孔径測定など
    3.2 カートリッジと除菌性
    3.3 除菌性の若干の問題について
    3.4 透過理論について
  4. 精密炉過膜利用の若干の留意点
    4.1 炉材からの溶出と離脱
    4.2 プレフィルターの併用について
    4.3 適性流速について
    4.4 配管などについて
  5. 精密炉過膜の電子工業への応用の方途
    5.1 応用の方途
    5.2 微生物や微粒子の検出方法
  6. 薬品や気体炉過への応用
    6.1 フォトレジストの汚染粒子除去
    6.2 溶剤や酸などプロセス用薬品の汚染粒子除去
    6.3 エアやガスの清澄化
  7. 超純水製造システムへの応用
    7.1 超純水製造システムの発展と微生物および微粒子汚染問題
    7.2 微生物の存在と汚染
    7.3 微粒子の存在と汚染
    7.4 微生物と微粒子汚染対策
  8. 超純水製造システムの運転管理の一例
    8.1 実際の運転例
    8.2 差圧上昇と除菌性
    8.3 炉材とその出口側の薬剤殺菌の必要性
    8.4 UV殺菌の効果
    8.5 炉過寿命、導電率の回復など
  9. おわりに


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執筆者一覧(所属・肩書き等は発刊当時のものです)
 
【編者】
小野 員正東海大学 工学部 教授
 
【執筆者】(執筆順)
小野 員正東海大学 工学部 教授
小宮 啓義三菱電機(株)LSI研究所 研究主監
松本 美韶エヌ・テー・エヌ東洋ベアリング(株)技術本部総合研究所 顧問
山下 朝朗関東化学(株)研究所 主任研究員
菊池 勇ダン産業(株)工事部 部長
長山 弘文ダン産業(株)営業部 次長
沼田 典之ダン産業(株)取締役 技術部長
西 健男東洋熱工業(株)設計部設計課 課長
小山 文夫(株)日立製作所 中条工場設計部
栗田 守敏日立プラント建設(株)環境設備事業部技術部 部長
小池 勝美オルガノ(株)プラント技術部
鳴戸 智オルガノ(株)大船研究所 課長
小坂 謙治オルガノ(株)プラント技術部 部長
神子 安雄協和化工(株)常務取締役 設計部長
司城 武洋協和化工(株)設計部
山下 憲一工業技術院 機械技術研究所自動車安全公害部 排気課長
江見 準金沢大学 工学部 教授
金川 昭名古屋大学 工学部 教授
松尾 繁富士写真フィルム(株)産業機材部


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