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スーパーファインセラミックス制御技術ハンドブック

コードNO0143P
発 刊1990年4月
監 修
白崎 信一
科学技術庁 無機材質研究所第1研究グループ 綜合研究官
牧島 亮男
東京大学 工学部金属工学科 教授
価 格 POD(オンデマンド)価格 本体45,500円+税
体 裁 A4判並製横2段組 488頁
試 読不可
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高次ファインセラミックス工業化の鍵を握る各要素制御技術の詳細と実際、装置・特性・評価の最新データを集大成!

■ 主要構成

第1篇 スーパーファインセラミックスプロセス要素技術
第1章 粉末制御技術
第2章 焼結技術
第3章 構造制御技術
第4章 組織制御技術
第2篇 スーパーファインセラミックス制御技術
第1章 スーパーファイン粒子
第2章 スーパーファイン機能性セラミックス
第3章 スーパーファイン構造用セラミックス
第4章 複合・ハイブリッドセラミックス

【発刊にあたって】

“新素材”と言われる材料の中でもファインセラミックスは、機能の多様性と高さにおいて、有機材料や金属材料に比べて圧倒的地位にあると言える。 従来ファインセラミックスやオールドセラミックスに無縁な企業でさえも、好むと好まざるとにかかわらず、ファインセラミックスの開発を大きな目標とせざるを得ない時代になっている。

ファインセラミックス(ニューセラミックス)の最近の高度化はまことに著しく、今や“スーパーファインセラミックス”の時代に入ったといってよい。 スーパーファインセラミックスは、超ファインに制御された構造・組織にその秘密が隠されている。 このような構造・組織を達成するには、粉末特性、膜、非晶質、焼結、構造、組織、加工の各要素制御技術が重要で、これらの技術が一体となって超ファイン化を目指さなければならない。 とりわけ、高次構造(点欠陥、非晶質構造、非平衡構造、転位、組成変動、粒界構造)、高次組織(多孔質、粒界ヘテロ分散、ヘテロ結合、ヘテロ接合、薄膜各組織)の制御が最重要課題である。 したがって、これらの制御技術に多くの紙面を費し、これが本書の特徴の一つになっている。

このような要素技術を背景として、現在から来世紀に向けてスーパーファインセラミックスの開発・研究が進展している。 本書においては、これらの中から、近未来において高い確率で市場を担うことが予想されるものと、現在すでに市場に出始めており、かつ将来なお高い伸びが期待されるものをとりあげ、その制御技術の具体的内容と得られる特性(物性)の特徴に重点をおいて記述していただいた。

本書は、近未来を指向して開発や研究に携わる材料分野の方々の待望の実践書であることを確信して世に送り出すものであり、現在わが国のファインセラミックスの開発・研究を代表する産学官の研究者の方々に全面的にご協力いただいたことを深く感謝する次第である。

監修者 白崎 信一/牧島 亮男

■ 内容目次

総説<白崎 信一>
  1. ファインからスーパーファインへ―将来のファインセラミックス研究・開発の切り口
  2. スーパーファイン化時代の基本的問題点
    2.1 高次構造制御における問題点
    2.2 焼結性制御の問題点
    2.3 粉末特性制御の問題点

第1篇 スーパーファインセラミックスプロセス要素技術

第1章 粉末制御技術

(1) ZrO2小球による乾式粉砕法<黄木 正美/三輪 直人>
  1. ZrO2を含む強誘電体の製造方法について
  2. 実験
  3. 結果および考察
(2) 多段湿式法<大段 恭二>
  1. 多段湿式法による粉末製造の特徴
  2. 多段湿式法による材料の応用例
    2.1 PZT
    2.2 PLZT
    2.3 第3成分添加系(圧電、誘電セラミックスへの応用)
(3) アルコキシド法<吉本 哲夫/永井 昭>
  1. アルコキシドを利用するセラミックスの合成
    1.1 酸化チタン(TiO2
    1.2 酸化ジルコニウム・部分安定化ジルコニア
    1.3 鉛含有ペロブスカイト化合物
(4) 気相反応法<加藤 昭夫>
  1. CVD法微粉体の特徴
    1.1 CVD法粉体の焼結性
    1.2 BaTiO3微粉体の固相合成
  2. 気相反応法による粉体の合成
    2.1 粒子の生成条件
    2.2 粒子の大きさと形の制御
    2.3 合成法
  3. CVD法による微粉体の表面改質
  4. CVD法のセラミックス製造への応用
(5) 粒子配向技術<五十嵐 秀二>
  1. 粒子配向の意義
  2. 粒子の配向性
    2.1 材料
    2.2 配向度の評価法
  3. 粒子方向の方法
    3.1 ホットプレス法
    3.2 2段ホットプレス
    3.3 テープキャスティング
  4. 粒子配向の効果
    4.1 誘電率
    4.2 D-Eヒシテリシス
    4.3 圧電性
    4.4 電気光学効果
    4.5 機械強度

第2章 焼結技術

(1) 急熱焼結法<松本 和順/日向 健裕>
  1. 急熱焼結法
  2. 焼結機構
  3. 各論
    3.1 Al2O3
    3.2 BeO系
    3.3 フェライト
    3.4 BaTiO3
    3.5 Pb(Fe、Nb)O3
    3.6 PZT系
    3.7 Ba(Mg、Ta)O3
(2) ホットプレス法<永田 邦裕>
  1. ホットプレス法の概説
    1.1 ホットプレス法の特徴
    1.2 ホットプレス装置
    1.3 ホットプレスの方法
    1.4 圧電セラミックスのホットプレス
  2. 微細構造を制御した圧電セラミックス
    2.1 微細構造の制御技術
    2.2 諸特性に及ぼす微細構造の影響
  3. 電気光学セラミックスの作製技術
    3.1 電気光学セラミックスのホットプレス
    3.2 PLZT焼結に及ぼすフラックスの効果
  4. 粒子配向セラミックスの作製と特性
    4.1 ホットプレス法による粒子配向
    4.2 1軸粒子配向セラミックスの作製
    4.3 1軸配向した圧電セラミックスの特性
(3) HIP法<古川 満彦>
  1. HIP装置
    1.1 構造
    1.2 HIP仕様
    1.3 圧力媒体
  2. HIPの経済性
  3. HIPプロセス
  4. HIP応用技術
    4.1 各種セラミックスの焼結
    4.2 拡散接合
(4) 雰囲気制御焼結法<掛川 一幸>
  1. PLZTについて
  2. 透明PLZTのこれまでの製造法
  3. ホットプレスの問題点
  4. PLZTの常圧焼結
  5. 常圧焼結の問題点
  6. 新しい雰囲気焼結法
  7. 新しい雰囲気焼結法の実際
  8. 他の糸への適用
(5) 加圧燃焼焼結法<宮本 欽生>
  1. 加圧燃焼焼結法の原理と特徴
  2. 燃焼合成法
  3. 加圧燃焼焼結法の課題
    3.1 1軸加圧方式
    3.2 等方加圧方式
    3.3 衝撃圧方式
    3.4 遠心力方式
  4. 加圧燃焼焼結法による材料開発

第3章 構造制御技術

(1) PZTの不純物添加効果<高橋 貞行>
  1. PZTにおける諸特性制御の重要性
  2. PZTの内部電界
    2.1 内部電界の測定法
    2.2 内部電界の性質
    2.3 不純物と内部電界の関係
    2.4 内部電界の起源の考察
  3. 内部電界と圧電性
  4. 内部電界とQmおよび経年変化
  5. 不純物と電気抵抗
(2) 組成変動制御法<掛川 一幸>
  1. 組成変動の生じ方
  2. 組成変動と物性
  3. 組成変動定量法
    3.1 2成分系
    3.2 3成分系
  4. 種々の系の組成変動
  5. 組成変動解消法
  6. 組成変動導入法
  7. 組成変動制御法
  8. 電気特性設計
(3) 粒界制御法<藤本 正之>
  1. セラミックス粒界の不純物偏析現象
  2. SrTiO3系粒界層型セラミックスコンデンサの粒界制御
  3. SrTiO3系容量性セラミックバリスタの粒界制御
  4. BaTiO3系還元再酸化型セラミックスコンデンサの粒界制御
  5. AIN高熱伝導性セラミックスの粒界制御
(4) 単結晶欠陥制御法<平野 均>
  1. 非晶質材料・多結晶材料と単結晶材料
  2. 単結晶材料の特徴
  3. 単結晶の作製方法
  4. 目的整合に向けた制御手法
(5) 超格子制御法<坂東 尚周>
  1. 人工超格子の特徴
    1.1 構造の特徴
    1.2 機能性の特徴
  2. 超格子の作製法
    2.1 蒸着法
    2.2 反応性蒸着法
    2.3 スパッタ法
    2.4 レーザ蒸発法
  3. 人工超格子の評価法
    3.1 X線回折法
    3.2 高分解能電子顕微鏡
    3.3 RHEEDによる薄膜成長のその場観察
    3.4 その他
(6) 非晶体の特性制御<山根 正之>
  1. イオン交換による特性制御(応用例;強化、屈折率分布型ロッドレンズ、光通波路など)
    1.1 原理
    1.2 セルフォックレンズへの応用
    1.3 2次元レンズマトリックス、光導波路の形成
  2. 2重イオン交換法(応用例;屈折率分布型ロッドレンズ)
    2.1 原理
    2.2 展望
  3. 分子スタッフィング法(応用例;屈折率分布型ロッドレンズ、スラブレンズ)
    3.1 原理および作業工程
    3.2 応用上の要点
  4. 光分解法
    4.1 原理および作業工程
    4.2 現状と展望
  5. ゾルゲル法
    5.1 原理
    5.2 現状と展望

第4章 組織制御技術

(1) 微構造制御法<佐伯 淳/水谷 惟恭>
  1. 微構造制御法
  2. 2次相の析出時に加圧することによる微構造制御
    2.1 Y2O3添加ZrO2の正方晶相の析出現象
    2.2 加圧による析出相の変化
    2.3 Y2O3添加ZrO2の正方晶相の析出に及ぼす加圧効果
    2.4 加圧や荷重量による微構造制御の可能性
(2) 膜制御法<塩嵜 忠>
  1. セラミック薄膜
  2. 薄膜制御法
  3. ゾルゲル法
  4. 物理的蒸着法
    4.1 熱蒸着法
    4.2 イオン蒸着法
    4.3 スパッタ蒸着法
  5. 化学的蒸着法(CVD法)
    5.1 CVDとMO-CVD
    5.2 CVDによる各種のセラミック薄膜
  6. 物理化学的蒸着法
    6.1 低温プラズマ
    6.2 プラズマCVD
    6.3 プラズマCVDによる各種のセラミック薄膜
    6.4 光CVD法
(3) ヘテロ分散法<島田 昌彦/佐藤 次雄>
  1. 混合分散セラミックス
    1.1 クラックの湾曲および偏向強化セラミックス
    1.2 マイクロクラッキング強化セラミックス
    1.3 ウィスカ強化セラミックス
    1.4 ジルコニア強化セラミックス
  2. 析出粒子強化セラミックス
    2.1 マグネシウム・アルミニウムスピネルセラミックス
    2.2 結晶化ガラス
(4) 多孔性の制御<色川 秀勇/山本 登>
  1. セラミック多孔体の種類の製法
  2. 焼結法によるセラミック多孔体
    2.1 細孔の形成
    2.2 細孔容積
    2.3 細孔の形態
    2.4 細孔径
    2.5 比表面積
  3. 自動車排ガス用触媒担体
    3.1 コーディエライト質ハニカムセラミックス
    3.2 コーディエライト質ハニカムセラミックスの製造法、性質
  4. ディーゼル自動車用微粒子フィルタ
  5. 多層構造フィルタ
(5) ヘテロ接合法<高塩 治男>
  1. セラミックスと金属との接合
    1.1 セラミックスと金属との接合化形態と用途
    1.2 接合の基本と接合機構
    1.3 接合プロセスと接合方法
    1.4 各種接合方法
    1.5 接合体の評価
  2. セラミックス系ヘテロ接合

第2篇 スーパーファインセラミックス制御技術

第1章 スーパーファイン粒子

(1) フェライト磁性流体<羽田 紘一>
  1. フェライト磁性流体の概観
    1.1 フェライト磁性流体とは
    1.2 フェライト磁性流体の現状
  2. フェライト磁性流体の製法
    2.1 溶媒
    2.2 分散質(フェライト超微粒子)
    2.3 界面活性剤
  3. フェライト磁性流体の特性とその制御
    3.1 磁性流体の磁化の強さ
    3.2 磁性流体の粘性
    3.3 磁性流体の耐久性
  4. 磁性流体用超微粒子の磁性
    4.1 粒径の効果としての一般的性質
    4.2 超微粒子化による特異的性質
  5. フェライト磁性流体の応用と製品化の現状
  6. 将来の展望
(2) 垂直磁気記録用バリウムフェライト微粒子磁性粉<井戸 忠/久保 修>
  1. Baフェライト微粒子粉の製法
  2. Baフェライト超微粒子の特徴
    2.1 形状特性
    2.2 磁気特性
  3. Baフェライト塗布型垂直磁気記録媒体とその応用
    3.1 電磁変換特性
    3.2 Baフェライト媒体の応用例
(3) SnO2超微粒子センサ<阿部 惇>
  1. ガスセンサに最適なSnO2超微粒子膜の構造定数
  2. SnO2超微粒子膜のチャネル部分における電気伝導のモデル
  3. SnO2超微粒子膜のチャネル部分の表面におけるガスの吸脱着
  4. SnO2超微粒子膜のキャリア濃度と移動度
  5. 超微粒子の平均粒径の制御
  6. SnO2超微粒子膜を構成する超微粒子の組成制御
  7. SnO2超微粒子センサのマテリアルデザイン
  8. SnO2超微粒子センサによるガスの種類の判別法
(4) ZrO2系原料粉末<坂本 光久>
  1. ジルコニアの特徴
  2. ジルコニアの一般的性質
  3. ジルコニア粉末の一般的製法
  4. ジルコニアの強化機構
  5. 原料粉末に要求される特性
    5.1 粉末の成形性
    5.2 粉末の焼結性
  6. 高強度ジルコニア粉末の合成
    6.1 加水分解法
    6.2 中和共沈法
    6.3 その他
  7. 市販ジルコニア粉末
    7.1 純度
    7.2 粉体特性
    7.3 焼結特性
  8. ジルコニアの焼結体特性
    8.1 熱安定性
    8.2 硬度と破壊靱性
  9. 今後の展開
(5) ペロブスカイト原料粉末<安倍 一允/青木 昌史>
  1. 超微細ペロブスカイト粉末の必要性
  2. 微細なチタン酸バリウムの製造方法
    2.1 仮焼法
    2.2 共沈法
    2.3 アルコキシド法
    2.4 水熱法
  3. 微細ペロブスカイト粉末の物性と焼結体の特性
    3.1 粉体物性
    3.2 焼結性
    3.3 塗料適性
    3.4 電気特性
    3.5 固溶体の特性について
    3.6 低温焼結剤の添加効果
    3.7 コンデンサ応用例

第2章 スーパーファイン機能性セラミックス

(1) 酸化物超電導材料または超電導セラミックス<田中 吉秋/前田 弘>
  1. 超電導材料
  2. 高温酸化物超電導材料
    2.1 YBaCuO系酸化物
    2.2 BiSrCaCuO系酸化物
    2.3 TlBaCaCuO系酸化物
  3. 酸化物超電導材料の実用化
    3.1 気相法による製造
    3.2 液相法による製造
    3.3 固相法による製造
(2) 電子放射TiC単結晶<大谷 茂樹>
  1. 単結晶育成
    1.1 装置
    1.2 焼結棒の作製
    1.3 FZ法による単結晶の育成
    1.4 均一組成をもつ単結晶の育成原理
    1.5 単結晶の評価
  2. TiC単結晶の電界電子放射陰極
(3) 光磁気メモリ膜<今村 修武>
  1. 原理
  2. 記録材料
  3. 課題と対策
(4) AlN基板<田村 成敬/岩瀬 暢男/安斉 和雄/杉浦 康之>
  1. AlNの特徴
  2. AlN高伝熱伝導率化
  3. AlN基板の特性
    3.1 各種セラミックス基板との物性比較
    3.2 AlN基板の信頼性
  4. AlNの部品化技術
    4.1 メタライズ基板
    4.2 DBC®基板
    4.3 厚膜基板
    4.4 薄膜基板
    4.5 AlNパッケージ
(5) 低誘電率基板<丹羽 紘一/橋本 薫>
  1. 低誘電率ムライト基板
  2. 低誘電率複合セラミックス
    2.1 コーディエライトとほうけい酸ガラスの複合セラミックス
    2.2 クリストバライト析出の抑制
  3. アルミナ系およびムライト系低誘電率複合セラミックス
  4. 低誘電率セラミック多層回路基板の伝送特性
    4.1 特性インピーダンス
    4.2 クロストーク
    4.3 伝搬遅延
(6) マイクロ波用誘電体セラミックス<田村 博/脇野 喜久男>
  1. 誘電体共振器材料のマイクロ波特性
  2. マイクロ波用誘電体の製造工程
  3. マイクロ波用誘電体の制御技術
    3.1 Ba2Ti9O20系材料
    3.2 (Zr,Sn)TiO4材料
    3.3 BaO-Nd2O3-TiO2系材料
    3.4 複合ペロブスカイト系材料
(7) フッ化物系ガラス<柴田 俊昭>
  1. フッ化物系ガラス組成
  2. フッ化物ガラスの作製
  3. フッ化物ガラスファイバ母材の作成
  4. ファイバ化技術
  5. フッ化物ガラスファイバの伝送特性
  6. フッ化物ガラスの光散乱
  7. フッ化物ガラスの機械強度
  8. フッ化物ガラスの電気的特性
  9. フッ化物ガラスファイバの応用
(8) 超イオン伝導性ガラス<南 努>
  1. 固体におけるイオン伝導性の向上
  2. ガラス化のメリット
  3. 新しいガラス生成系の開発
    3.1 Ag+イオン伝導ガラス
    3.2 Li+イオン伝導ガラス
    3.3 超急冷ガラス
  4. 伝導機構
  5. ガラス構造
  6. 応用
(9) 屈折率分布型微小光学素子<奥田 栄次>
  1. イオン交換法
  2. 屈折率分布型平板マイクロレンズ
    2.1 作製方法
    2.2 特性
    2.3 応用
    2.4 今後の展開
  3. 屈折率分布型光導波路
    3.1 作製方法
    3.2 シミュレーション
    3.3 応用
    3.4 今後の展開

第3章 スーパーファイン構造用セラミックス

(1) 結晶化ガラス系生体セラミックス<伊藤 節郎>
  1. 生体用結晶化ガラスの用途と特徴
  2. 生体用結晶化ガラスの作成法
  3. 生体用結晶化ガラスの種類
    3.1 骨用結晶化ガラス
    3.2 歯冠用結晶化ガラス
    3.3 治療用結晶化ガラス
  4. 今後の展開
(2) BN膜<小松 正二郎>
  1. 硬質BN薄膜の気相合成が試みられるまで
  2. BN薄膜の作成法
    2.1 化学的蒸着法(CVD法、chemical vapor deposition)
    2.2 プラズマCVD法(plasma enhanced chemical vapor deposition,PECVD)
    2.3 物理的蒸着法
  3. 硬質BN薄膜の作成法
    3.1 反応性パルス・プラズマ法(reactive pulse plasma crystallization)
    3.2 電子線CVD法(electron enhanced chemical vapor deposition,EECVD)
    3.3 イオンビーム蒸着法(ion beam deposition)
    3.4 イオン化蒸着
    3.5 中性化イオンビーム法
    3.6 ホウ酸を原料とする反応性活性化蒸着法(activated reactive evaporation,ARE)
    3.7 レーザパレス蒸着法(laser pulse vapor deposition)
    3.8 活性化ノズルを用いた反応性活性化蒸着法(activated reactive evaporation with a gas activation nozzle)
(3) 多結晶ダイヤモンド<赤石 寛>
  1. 多結晶ダイヤモンドの合成法とその機械的性質
  2. 高硬度セラミックスの切削工具材料
  3. 耐熱性多結晶ダイヤモンド
    3.1 低金属含有多結晶ダイヤモンド
    3.2 低金属含有多結晶ダイヤモンドの耐熱性
(4) シラス多孔質ガラス<中島 忠夫>
  1. ガラス多孔体
  2. 相分離と多孔質ガラス
  3. シラス多孔質ガラスの製造
  4. シラス多孔質ガラスの構造と機能
  5. シラス多孔質ガラスの化学的性質
  6. シラス多孔質ガラスの利用
  7. 細孔制御の重要性と多機能化
(5) MgO透明セラミックス<松田 伸一>
  1. 添加物の効果
    1.1 無添加
    1.2 弗化物
    1.3 酸化物
    1.4 ハイドロカーボン
    1.5 その他
  2. 粉末特性と焼結性
    2.1 出発原料
    2.2 純度
    2.3 1次粒子
    2.4 2次粒子
  3. 用途

第4章 複合・ハイブリッドセラミックス

(1) Si3N4-SiCセラミックス<新原 晧一>
  1. 今なぜにSi3N4-SiCセラミックスか
  2. ミクロ複合材料
    2.1 粒子分散強化
    2.2 ウィスカ分散強化
    2.3 長繊維強化
  3. ナノ複合材料
    3.1 Si3N4-SiCナノ複合材料の製造
    3.2 ミクロおよびナノ構造と機械的性質
(2) アルミナ基高強度セラミックス<深津 保/五十嵐 隆光>
  1. ファイン化のための制御技術
  2. セラミック特性と制御技術各論
    2.1 高強度純アルミナ
    2.2 高強度高靱性TiC分散アルミナ
    2.3 高強度高靱性ジルコニア分散アルミナ
    2.4 高靱性SiCウィスカ分散アルミナ
(3) 非酸化物系複合セラミックス<遠藤 英宏/植木 正憲/久保 紘>
  1. SiC-TiC系複合セラミックス
    1.1 SiC-TiC系複合セラミックスの作製
    1.2 SiC-TiC系複合セラミックスの焼結挙動
    1.3 SiC-TiC系複合セラミックスの機械的特性
    1.4 SiC-TiC系複合セラミックスにおける焼結助剤の効果
  2. SiC-遷移金属炭・窒・硼化物系複合体
  3. SiC基粒子分散型複合体の電気伝導度
  4. SiC-TiC系複合セラミックスの常圧焼結
(4) SrTiO3セラミックバリスタ<山岡 信立/増山 勝/船山 純一>
  1. セラミックバリスタとSrTiO3系セラミックス
  2. SrTiO3系セラミックバリスタの材料と基本特性
    2.1 材料と製法
    2.2 基本特性
  3. SrTiO3系セラミックバリスタの電気的特性
    3.1 ノイズ吸収機能
    3.2 立上がりの速いインパルス性サージ吸収機能
    3.3 サージ吸収機能
  4. SrTiO3系セラミックバリスタの信頼性
    4.1 自動復帰機能
    4.2 各種ストレスに対する信頼性
  5. SrTiO3系セラミックバリスタの応用
    5.1 電源1次側への応用
    5.2 誘導性負荷開閉サージ吸収への応用
(5) 圧電セラミックスコンポジット<坂野 久夫>
  1. コンポジットの特性値の数式的表現
  2. コンポジットの総合モデルと基本モデルの理論式
  3. 1-3型コンポジット
  4. 2-2型コンポジット
  5. 3-3型コンポジット
  6. 3-0型および0-3型コンポジット
  7. 0-0型+0-3型コンポジット
(6) 有機・無機ハイブリッド非晶質体<牧島 亮男>
  1. ゾルーゲル法によるハイブリッド化物質の合成
  2. ハイブリッド化物質の特性とフォトケミカルホールバーニングPHB
    2.1 PHBと超高密度光メモリ
    2.2 キニザリン−非晶質シリカハイブリッド化物質のPHB
  3. ゲルからの多孔質シリカへの有機物含浸法
  4. その他の有機・無機複合体

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■ 執筆者一覧(執筆順・敬称略、肩書等は発刊時のものです)
■ 編集委員
白崎 信一
科学技術庁 無機材質研究所第1研究グループ 綜合研究官
牧島 亮男
東京大学 工学部金属工学科 教授
 
■ 執筆者(執筆順)
白崎 信一
科学技術庁 無機材質研究所第1研究グループ 綜合研究官
黄木 正美
日本電装(株)セラミック事業部 事業部長
三輪 直人
日本電装(株)セラミック事業部セラミック開発部 部長代理
大段 恭二
宇部興産(株)宇部研究所 部長
永井 昭
日本曹達(株)小田原研究所新材料研究室 室長
吉本 哲夫
日本曹達(株)小田原研究所新材料研究室 主任研究員
加藤 昭夫
九州大学 工学部応用化学科 教授
五十嵐 秀二
防衛大学校 電気工学教室電子工学科 教授
松本 和順
住友金属鉱山(株)中央研究所デバイスグループ 主任研究員
日向 健裕
住友金属鉱山(株)中央研究所デバイスグループ
永田 邦裕
防衛大学校 電気工学教室電子工学科 助教授
古川 満彦
日本タングステン(株)第1研究開発部 部長
掛川 一幸
千葉大学 工学部合成化学科 助教授
宮本 欽生
大阪大学 産業科学研究所 高機能極限材料研究センター 助教授
高橋 貞行
日本電気(株)材料開発試作センター 主管研究員
藤本 正之
太陽誘電(株)総合研究所 主任研究員
平野 均
東芝セラミックス(株)シリコン技術部 部長
坂東 尚周
京都大学 化学研究所新機能材料研究部門 教授
山根 正之
東京工業大学 工学部無機材料工学科 教授
水谷 惟恭
東京工業大学 工学部無機材料工学科 教授
佐伯 淳
東京工業大学 工学部 助手
塩嵜 忠
京都大学 工学部電子工学科 助教授
島田 昌彦
東北大学 工学部分子化学工学科 教授
佐藤 次雄
東北大学 工学部分子化学工学科 助教授
色川 秀勇
日本ガイシ(株)開発企画部 主任研究員
山本 登
日本ガイシ(株)技術顧問
高塩 治男
(株)東芝 新素材事業部粉末冶金部 部長
羽田 紘一
石巻専修大学 理工学部電子材料工学科 助教授
井戸 忠
(株)東芝 新素材応用研究所 課長
久保 修
(株)東芝 新素材応用研究所 課長
阿部 惇
松下電器産業(株)中央研究所 主幹研究員
坂本 光久
東ソー(株)機能材料・商品事業部セラミックス原料開発室 室長
安倍 一允
堺化学工業(株)中央研究所
青木 昌史
堺化学工業(株)中央研究所
前田 弘
金属材料技術研究所 第1研究グループ 総合研究官
田中 吉秋
金属材料技術研究所 第1研究グループ 第1サブグループリーダー
大谷 茂樹
科学技術庁 無機材質研究所第12研究グループ 主任研究官
今村 修武
東ソー(株)新材料研究所 所長
田村 成敬
(株)東芝 新素材事業部ファインセラミックス部 主務
岩瀬 暢男
(株)東芝 総合研究所金属セラミック材料研究所 主任研究員
安斉 和雄
(株)東芝 新素材応用研究所 主査
杉浦 康之
(株)東芝 新素材事業部ファインセラミックス部 課長
丹羽 紘一
(株)富士通研究所 厚木研究所無機材質研究部 部長
橋本 薫
(株)富士通研究所 厚木研究所無機材質研究部第1研究室 室長
脇野 喜久男
(株)村田製作所 専務取締役
田村 博
(株)村田製作所 技術本部 第3グループセラミック開発部開発1課 課長
柴田 俊昭
古河電気工業(株)光・通信事業部 千葉通信製造部 通信製造課 課長
南 努
大阪府立大学 工学部応用化学科 教授
奥田 栄次
日本板硝子(株)筑波研究所 主任研究員
伊藤 節郎
旭硝子(株)ニューガラス開発研究所 主席研究員
小松 正二郎
科学技術庁 無機材質研究所 超高温ステーション 研究員
赤石 實
科学技術庁 無機材質研究所 第8研究グループ 主任研究官
中島 忠夫
宮崎県工業試験場 化学部特別研究員 兼 開発化学科長
松田 伸一
科学技術庁 無機材質研究所 第1研究グループ 主任研究官
新原 皓一
大阪大学 産業科学研究所 教授
深津 保
東芝タンガロイ(株)取締役 材料本部長
五十嵐 隆光
東芝タンガロイ(株)研究部 主任
久保 紘
新日本製鉄(株)第1技術研究所 素材第1研究センター 所長・主幹研究員
植木 正憲
新日本製鉄(株)第1技術研究所 素材第1研究センター 主任研究員
遠藤 英宏
新日本製鉄(株)第1技術研究所 素材第1研究センター
山岡 信立
太陽誘電(株)生産システム研究所 取締役所長
増山 勝
太陽誘電(株)電子材料事業部 セラミックグループ課長
船山 純一
太陽誘電(株)事業本部 NPM主任研究員
坂野 久夫
日本特殊陶業(株)常務取締役セラミック研究・圧電機器・特許担当
牧島 亮男
東京大学 工学部金属工学科 教授


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