【発刊にあたって】
半導体ウェーハ技術は、大口径化と表面(層)の高品質化を両輪として開発が進められてきた。
大口径化に関しては、当初1999年から2000年頃とされていたφ300mmへの移行時期が、膨大な設備投資がかかる上、昨今の半導体不況の影響を受けて大幅に遅れている。
最近になって、ようやく半導体景気の回復の兆しも見え、φ300mmラインの立ち上げも2002年から始まることが明らかになってきている。
一方、デバイスの高速化と収量確保のため、大口径化が先送りされる分、デザインルールの微細化が先取りされる傾向は依然として強く、ITRS(International
Technology Roadmap for
Semiconductors)1999年版では、0.15μmがスキップされ2002年に0.13μm、2005年に0.1μmになることが示されている。
その結果、超平坦性を始めとしたウェーハ表面の高品質化に対する要求は非常に厳しくなってきており、0.1μmデバイスに向けたウェーハ表面加工の精密制御が注目されている。
また、デバイス製造プロセスにもCMPのような機械的プロセスが導入され、半導体プロセス技術者にとっても加工表面の精密制御は重要な課題となっている。
ウェーハ表面の精密制御のためには、ウェーハ加工技術はもとより装置、材料、評価に至る広い領域の制御技術が必要とされる。
従来、ウェーハ加工はアート的要素が強く、経験に基づいたノウハウで管理されている場合が多いが、今後出来栄え管理では対応できないことが予見される。
本書では、これらを鑑み、各加工工程を基本原理から装置、材料に至るまで捉え直し、可能な限りサイエンスとして取り上げるとともに、精密制御のために不可欠な評価技術に対してもメスを入れるものである。
これにより、ウェーハ製造技術者のみならず半導体プロセス技術者、装置技術者に対し、光露光の限界レベルまでの加工表面を追求するための基礎を提供することを目的としている。
編集委員 |
松下 嘉明
深谷 栄
津屋 英樹
高須 新一郎
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■ 執筆者一覧(敬称略・執筆順、所属・肩書き等は発刊当時のものです) |
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■ 編集委員 |
松下 嘉明 | 東芝セラミックス(株)シリコン事業部 副事業部長 |
深谷 栄 | 信越半導体(株)白河工場品質保証部 部長 |
津屋 英樹 | 住友金属工業(株)シチックス事業本部 技監 |
高須 新一郎 | SEMIジャパン情報技術・スタンダード顧問 |
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■ 執筆者 |
久保田 裕康 | (株)東芝セミコンダクター社 半導体材料技術部 部長 |
福田 哲生 | 富士通(株)ULSI開発部プロジェクト課長 |
滝山 真功 | ニッテツ電子(株)開発グループ主任 |
深谷 栄 | 信越半導体(株)白河工場品質保証部 部長 |
辻本 康治 | 住友金属工業(株)プロセス開発部副 参与 |
山口 久福 | 山口環境安全技術研究所 代表取締役所長 |
佐藤 和夫 | 東芝セラミックス(株)プロセス材料事業部第2技術部
担当主幹 |
石川 憲一 | 金沢工業大学 学長・教授 |
安永 雅昭 | (株)東精エンジニアリング 土浦事業所 所長 |
大石 弘 | (株)スーパーシリコン研究所 第2研究室 主任研究員 |
浅川 慶一郎 | (株)スーパーシリコン研究所 第2研究室 研究員 |
松崎 順一 | (株)スーパーシリコン研究所 第2研究室 研究員 |
芦田 昭雄 | 大智化学産業(株)技術部開発課 主任 |
神谷 聖志 | 東芝セラミックス(株)開発研究所 所長 |
小島 勝義 | 東芝セラミックス(株)開発研究所 研究主務 |
河西 敏雄 | 埼玉大学大学院 理工学研究科生産科学専攻 教授 |
稲田 安雄 | 不二越機械工業(株)営業技術本部 主任技術員 |
伊藤 広一 | (株)フジミインコーポレーテッド 生産技術課 課長 |
加藤 忠弘 | 信越半導体(株)半導体白河研究所開発3部 主任研究員 |
阿部 耕三 | (株)スーパーシリコン研究所 第2研究室 主任研究員 |
南條 雅俊 | (株)ディスコPSカンパニー営業技術部マーケティング課
副主事 |
厨川 常元 | 東北大学大学院 工学研究科機械電子工学専攻 助教授 |
橋本 洋 | 神奈川工科大学 機械工学科 教授 |
福永 寿也 | コマツ電子金属(株)技術本部開発技術部 加工技術Gr. |
清水 博文 | 日本大学 工学部電気電子工学科 教授 |
友安 昌幸 | 東京エレクトロン山梨(株)ES開発技術部 部長 |
楢岡 清威 | 学習院大学 理学部客員研究員 |
田邉 和夫 | (株)エンヤシステム 取締役副社長 |
高石 和成 | 三菱マテリアル(株)シリコン研究センター副主任研究員 |
八田 健一 | ニッテツ電子(株)開発グループ加工開発チームリーダ |
安永 暢男 | 東海大学工学部精密機械工学科教授 |
清水 俊邦 | スピードファムアイペック(株)プロセス開発部 課長 |
児玉 一志 | (株)フジミインコーポレーテッド 取締役商品開発本部長 |
辻村 学 | (株)荏原製作所 精密・電子事業本部技術統括部長 |
服部 毅 | ソニー(株)厚木テクノロジーセンター主幹研究員 |
上村 賢一 | 新日本製鐵(株)先端技術研究所主任研究員 |
森 良弘 | 新日本製鐵(株)先端技術研究所 主任研究員 |
森田 博志 | 栗田工業(株)開発本部技術開発センター 超純水開発グループ
チームリーダー |
村岡 祐介 | 大日本スクリーン製造(株)開発本部EE開発部 担当課長 |
山本 秀和 | 三菱電機(株)ULSI技術開発センタープロセス評価技術部
材料評価グループグループマネージャー |
桐野 好生 | 東芝セラミックス(株)海外営業部主査 |
森田 悦郎 | 三菱マテリアルシリコン(株)技術本部プロセス技術部 課長 |
内山 勇雄 | 信越半導体(株)半導体白河研究所 評価解析部 |
大竹 茂行 | SEMIジャパンスタンダード部マネージャ |
堀川 貢弘 | 日本電気(株)ULSIデバイス開発研究所
エキスパートエンジニア |
北島 洋 | 日本電気(株)ULSIデバイス開発研究所
プロジェクトマネージャー |
松下 嘉明 | 東芝セラミックス(株)シリコン事業部 副事業部長 |
杉田 充 | 信越半導体(株)白河工場 品質保証部 |
徳岳 文夫 | 東芝セラミックス(株)開発研究所評価分析部 部長 |
山口 博 | 東芝セラミックス(株)開発研究所評価分析部 課長 |
村岡 久志 | (株)ピュアレックス 代表取締役 |
野崎 正 | (株)ピュアレックス 顧問 |
宮崎 守正 | 住友金属工業(株)シチックス事業本部 参事 |
高田 清司 | (株)スーパーシリコン研究所 取締役研究所長 |
中野 正剛 | 信越半導体(株)半導体磯部研究所 開発1部研究員 |
楯 直人 | 信越半導体(株)半導体磯部研究所 開発1部 |
森 勇藏 | 大阪大学大学院 工学研究科精密科学専攻 教授 |